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賽默飛Thermo Orbitrap Elite 氮氣發生器

簡要描述:賽默飛Thermo Orbitrap Elite 氮氣發生器
2010年Flairmo*實驗室空壓機問世,基于在氣體制造及純化技術上建立起來的強大技術團隊和專業知識背景,Flairmo 不斷開展對空氣分離技術的開發及創造性研究工作,現已成功發展成為現今世界上重要的氣體發生器制造商之一。公司總部設在丹麥奧爾堡。10多年來, Flairmo一直從事壓縮機和氮氣發生器的制造。

  • 產品型號:丹麥進口Flairmo
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2024-05-07
  • 訪  問  量:1931

詳細介紹

賽默飛Thermo Orbitrap Elite 氮氣發生器

2010年Flairmo*實驗室空壓機問世,基于在氣體制造及純化技術上建立起來的強大技術團隊和專業知識背景,Flairmo 不斷開展對空氣分離技術的開發及創造性研究工作,現已成功發展成為現今世界上重要的氣體發生器制造商之一。公司總部設在丹麥奧爾堡。10多年來Flairmo一直從事壓縮機和氮氣發生器的制造,產品滿足各類實驗室、科學儀器對高純氫氣、高純氮氣、零級空氣、大流量氮氣等氣體的需求,涉及醫療,實驗室,食品,工業等各個行業。

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型號:N2G 40 – A200.6

氮氣純度99.5%,流量40L/min,內置空壓機,壁掛式/柜式箱體,整套系統占地面積不超過0.4平方米質譜配套氮氣發生器。適配Agilent安捷倫,Thermo Fisher賽默飛,AB SCIEX,沃特世Waters ,布魯克 Bruker,島津Shimadzu,PerkinElmer珀金埃爾默等品牌液質聯用儀LC-MS。

提供3年10000小時質保服務。

所用技術 PSA

流速        40 SLPM

出口壓力 0   到 7 barg / 0 到   100 psig

空壓機     內置

操作環境溫度          5°C   到40°C

工作環境濕度          相對濕度≤   70% , 不冷凝

高海拔     2000 米

尺寸        (長x寬x高 ): 615 x 630 x 860 mm

重量:110 kg


賽默飛Thermo Orbitrap Elite 氮氣發生器

丹麥Flairmo*氮氣發生器專門為LCMS設計,采用*進的PSA技術,將空氣壓縮機里的氣體導入碳分子篩,氧氣、二氧化碳、水份及其他雜質在通過碳分子篩時被除去,只允許氮氣通過碳分子篩并進入蓄氣池,在蓄氣池里進行壓力和流速的調節后就可以與用氣設備相連。

Flairmo N2G40-A200.6系列氮氣發生器高配機型內置氧濃度分析儀,可以實現純度在線顯示,報警等功能,并且可以用手機APP或者電腦程序實施遠程監測,機器的內部控制結合氧濃度分析儀實現純度的真正可選可控,只會產出我們設定好需要的氮氣。

Flairmo N2G40-A200.6系列氮氣發生器配備了LCD 觸摸顯示屏可以方便查看機器狀態和記錄,如開機次數,運行時間,純度設置,純度報警,維修服務提醒等等。


與采用中空纖維膜技術對比

1、碳分子篩技術可實現自我凈化,不僅有效去除雜質和碳氫化合物,而且得到的氮氣純度更高,這就是為什么所有廠家氣相用氮氣發生器(因為純度要求達到99.999%)全部采用碳分子篩技術而不是膜分離技術。

2、膜分離技術,根據不同氣體在通過膜時的滲透屬性不同,將空氣中的氮氣分離出來,但通過膜的壓縮空氣即使之前經過凈化也會存在一定的雜質和碳氫化合物,這些雜質會附著在膜上而不會*排除,在空氣濕度大的地方,膜的分離效率會不斷降低,純度和流速會逐漸降低.

3、碳分子篩技術更適宜于潮濕的空氣環境和高溫天氣;

Thermo LTQ Orbitrap Elite 組合式質譜
新一代Thermo Scientific Velos Pro離子阱與高場Orbitrap技術相結合,Thermo Scientific Orbitrap Elite組合式質譜為各項研究應用提供zui*的多功能性和性能。

Thermo Scientific Orbitrap Elite組合式質譜具有業界的超凡性能,將下一代高場Orbitrap分析器和Thermo Scientific Velos Pro雙壓線性離子阱結合。
高場Orbitrap分析器提高樣品分析的速度、靈敏度和動態范圍, 幫助您進行更深入的研究。

超高分辨率可確定完整蛋白質的分子量,進行深入的同位素分析,從而提供極其可靠的分析結果。
第二代離子光學技術,具有中性阻擋技術和Velos Pro* 檢測系統,提高分析系統的耐用性和定量功能。
新型高場Orbitrap分析器
分辨率> 240,000 FWHM
*的信號處理
多種裂解技術:如碰撞誘導解離(CID)、更高能量碰撞誘導解離(HCD)以及可選的電子轉移解離(ETD)
平行的質譜和多級質譜分析
Velos Pro離子阱第二代離子光學具有中性阻擋技術,提供耐用性


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